MF方波中频溅射电源

MF方波中频溅射电源

应用于双阴极溅金属或半导体材料，特别适合于反应磁控溅射，氧化物氮化物碳化物膜层增加离化率。
特点：
主回路拓扑采用PFC+全桥构架结合DSP +FPGA 数字控制技术
恒功率/恒流模式切换恒功率模式更能保证镀膜工艺的重复性
内置灭弧时间设置10us-100us适应不同的工艺及靶材打弧显示计数
同时检测V-ARCI-ARC快速切断输出同时启动内置专利技术消除残余电弧能量，避免阴极及基片打弧，确保高精膜
独立主控系统采用智能均流技术确保并联时每个模块输出相同功率频率有效提高了电源系统的可靠性
配置面板操作和显示；远程 PLC控制
通讯接口： 模拟量； Modbus ；PROFIBUS ；EtherCAT